光化學加工工藝,也叫光蝕刻,對于生產(chǎn)具有復雜幾何結(jié)構(gòu)或具有很多孔的零件效率非常高,而如果采用模壓、沖孔、激光或線切割等工藝加工這些零件,則可能產(chǎn)生毛刺及機械或熱變形。
將帶有補償因子、專門用于蝕刻工藝的工具文件輸出到分辨率很高的光電繪圖儀上,并產(chǎn)生相互匹配的前后圖片整理器。具有復雜幾何結(jié)構(gòu)的工件,例如,形狀奇異,帶有很多孔,采用光化學加工通常要比模壓、沖孔、激光切割或線切割加工更經(jīng)濟實惠。
光蝕刻適合大量金屬加工工藝,其中包括模壓、模具沖裁、沖孔、激光和水射流切割及線切割等。其特殊的優(yōu)點包括可以加工非常薄的材料,厚度最小可達0.0005英寸;可以加工出復雜的幾何結(jié)構(gòu),包括細網(wǎng)、網(wǎng)格和格柵等;可以實現(xiàn)精確至金屬厚度±10%的尺寸公差;可以快速小批量或大批量加工產(chǎn)品,且成本低廉。此外,光蝕刻還不會在金屬中產(chǎn)生任何熱應力或機械變形。
該工藝采用價廉且快速形成的工具,該工具可適應一系列零件結(jié)構(gòu)或單個結(jié)構(gòu)的多次重復,以加速開發(fā)過程。光蝕刻過的零件可以用厚度為0.001~0.050英寸的金屬片在短短2、3天內(nèi)加工好。零件尺寸范圍很廣,最小可以為帶有0.004英寸結(jié)構(gòu)、大小為0.100英寸的零件,最大為24×60英寸的零件。
公差和特征尺寸
可以實現(xiàn)的最小公差范圍為:對于小于0.010英寸的厚度,為材料厚度的±10%。對于厚度為0.010~0.020英寸的零件,公差范圍為±0.0015~±0.0025英寸。對于0.021~0.035英寸的厚度,最經(jīng)濟的公差為±0.005英寸。對于超出0.035英寸的厚度,尺寸公差帶將近似等于材料厚度的±20%。
最小的孔或微型槽的尺寸,對于厚度在0.02英寸以內(nèi)的材料,必須至少為材料厚度的110%;對于厚度超出0.020英寸的金屬,為材料厚度的120%。孔或槽之間最薄的區(qū)域必須至少等于材料厚度。內(nèi)、外側(cè)半徑的最小尺寸等于材料厚度。
應用
當時間、工具、零件復雜度或材料厚度等不是很適合采用傳統(tǒng)工藝的時候,采用光蝕刻工藝往往很有用。該工藝在傳統(tǒng)上用于在單個工具上“排布”不同部件,對于開發(fā)中有多個(具有相同合金和規(guī)格的)零件的情況很有用,或者對于待試結(jié)構(gòu)具有大量重復的情況也很有用。
光蝕刻工藝可以加工復雜幾何結(jié)構(gòu)或帶有大量孔的零件,與激光切割、線切割甚至CNC沖壓相比,在循環(huán)時間和裝夾時間方面具有明顯的優(yōu)勢;它可以進行部分深度蝕刻,因此可以免除后續(xù)壓印或雕刻工序;可以加工出表面潔凈的零件,避免碳、鐵或切削潤滑油污染等方面的問題。
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